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超构表面微纳光子器件团队入选中国光学工程学会“光学超构材料三年优秀成果展”优秀成果

发布时间:2024-11-28 09:33 发布单位:光子技术研究院


9月7至9日,中国光学工程学会公布“光学超构材料三年优秀成果展”入选名单。物理与光电工程学院(理工学院)光子技术研究院超构表面微纳光子器件课题组(邓子岚、李向平、王帅、史坦、李枫竣、胡孟霞)的系列成果——“超构表面新型偏光器件”,被评为设计与制造类优秀成果,充分展现了团队在微纳光学领域的创新能力与技术突破。

微纳光学作为光学学科最活跃的前沿领域之一,近年来在学术研究和产业应用中取得了诸多突破。基于局域电磁相互作用开发的微纳光学器件,凭借其多功能性与高集成度,成为21世纪推动技术革新的关键科学方向。其中,“超构材料”作为微纳光学的核心分支,是全球最具战略意义的研究领域之一,已被广泛认为能够为光学传感、通信、生物医疗等多个领域提供颠覆性技术支持。为构建良好生态圈,更好地促进超构材料和超构表面技术自身发展和其在多领域的应用,中国光学工程学会组织开展“光学超构材料三年优秀成果展”活动,并在“第八届微纳光学技术与应用交流会暨PhotoniX Forum 2024”会议上展出入选优秀成果。

此次活动全面回顾和展示超构材料和超构表面的学术成果和与产业链相关的理论、技术、产品的发展。不仅展示相关学术与技术成就,还将针对超构材料产业生态中的薄弱环节进行深入探讨,旨在明确未来发展方向、优化生态体系,并进一步激发超构材料的应用潜力,为推动光子技术的跨越式发展提供坚实支持。


成果展将依据光学超构材料和超构表面的功能属性分“设计与制造、成像与显示、传感与探测、通信与计算”四大类。针对申报单位属性,开通“学术”和“产业”两个通道申报。申报截止后,学会组织专家对申报的成果进行函评和会评,最终有21项入选优秀,31项获提名。入选成果在大会期间进行了板报展出。

附: 优秀成果名单


图文:邓子岚